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李兴没有说大话，第二天他就拿着一份方案找到了郑南。
「郑厂长，我认为现在无法推进更高制程的主要原因，除了一个是光刻技巧外，还有更重要一点就是无法制作相应的光掩模。」
接触式光刻的原理就是用光这把刻刀透过光掩模这块遮光板，把想要的芯片图案1:1等比例投射在下面的硅片上。
也就是说下面芯片能做出多精细的制程，首先得取决于你能做出多少的光掩模，你不可能拿一张一毫米的光掩模做出10微米的芯片来，相反你要是能拿出一微米的光掩模，也未必不能做出一微米制程的芯片。
「光刻技巧这方面我不懂，所以给不出任何建议，但对于更精细光掩模的制作，我却有一个好想法。」
「我看过无线电厂的光掩模制作，都是直接拿刻刀在光掩模玻璃上刻画，这种技术注定无法往更精细推进，而我的想法是如果我们能用一台高清相机，先把芯片图纸拍下来，利用相机的缩放技术曝光在底片上，再想办法把底片做成光掩模，就能得到一张高精度制程光掩模了。」
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